高纯氧化铝
HIGH PURITY
ALUMINA (99.999%)

恒博公司是5N氧化铝粉在人工蓝宝石行业的供应商之一。通过多年的高纯氧化物生产及管理经验累计,恒博生产工艺为粉体的纯度、质量稳定性提供有力的竞争优势。

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5N高纯氧化铝 & 4N高纯氧化铝

自2001年起,恒博不仅在竞争异常激烈的氧化铝粉行业生存下来,并且将自身的产品推向了国际化,而生存下来的重要标准就是核心的竞争力:品质。

国际市场

恒博凭借着高纯度以及高稳定性的特点,在高纯荧光用氧化铝市场享有盛誉。

LED应用

目前能用于LED生产商品化的衬底有两种,即蓝宝石和碳化硅衬底。从成本等多方面考虑,目前行业大多数的LED企业商品化生产采用了蓝宝石衬底方案。

特种磨料应用

特种磨料指的是以氧化铝粉为原料,作为研磨介质而被广泛使用。其具有相对纯度高、强度大、耐高温、耐高压、耐强酸碱腐蚀、热震稳定性好、化学性能稳定等特点。

蓝宝石晶体应用

蓝宝石晶体作为一种重要的技术晶体,已被广泛地应用于科学技术、国防与民用工业、电子技术等领域。例如透红外窗口材料,微电子领域的衬底基片,激光基质、光学元件等。

显示屏应用

由氧化铝制成的人工蓝宝石屏幕具有仅次于钻石的硬度,其耐磨性、断裂韧性与弹性要高于传统化学增强玻璃数倍。

新型保温材料应用

新型保温材料可应用在高档窑炉、耐高温材料以及汽车三元催化剂外保温抗震材料中。

二十五年积累的大规模生产高纯氧化物材料的技术及管理经验

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  • 陶瓷铝粉
  • 4N&5N氧化铝
  • 氧化铝微珠
  • ZTA粉

陶瓷用高纯氧化铝生产的氧化铝陶瓷材料具有结构稳定、机械强度高、硬度高、熔点高、抗腐蚀、化学稳定性优良、电阻率大、电绝缘性能好等优点,广泛应用于集成电路、电子原件等领域。

低温烧结高纯氧化铝
技术指标
Specification
HBAA03N08Z HBAZ06N00F HB3NA05N12ZM HBWA018N00ZM HBWA025N50Z HBW025N50ZM
晶型(XRD) α-Al₂O₃ α-Al₂O₃ α-Al₂O₃ α-Al₂O₃ α-Al₂O₃ α-Al₂O₃
中位粒径D50(µm) 0.3-0.4 0.5-0.6 0.3-0.7 0.18±0.02 0.27±0.03 0.27±0.03
比表面积(㎡/g) 7±1 6.5±1.5 8±1 11±1 8±1 8±1
松装密度(g/cm³) 1±0.1 0.4±0.05   1±0.1 1±0.1 1±0.1
灼减率(wt%)              ≤2      ≤1 1.2-2 ≤1 ≤6 ≤6
收缩率(%) 17.5±1   18±1 17.5±1 17±1 17±1
烧结密度(g/cm³) ≥3.92   ≥3.9 ≥3.95 ≥3.94 ≥3.94
强度(MPa) ≥350   ≥350 ≥500 ≥450 ≥500
Si(ppm) ≤15 ≤15 ≤300 ≤15 ≤15 ≤15
Fe(ppm) ≤5 ≤5 ≤100 ≤5 ≤5 ≤5
Mg(ppm) ≤2 ≤2 300 300 ≤2 300
Na(ppm) ≤5 ≤5 ≤300 ≤5 ≤5 ≤5
Cu(ppm) ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5
Ca(ppm) ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5

由5N高纯氧化铝制成的人工蓝宝石屏幕具有仅次于钻石的硬度,其耐磨性、断裂韧性与弹性要高于传统化学增强玻璃数倍。蓝宝石晶体作为一种重要的技术晶体,已被广泛地应用于科学技术、国防与民用工业、电子技术等领域。例如透红外窗口材料,微电子领域的衬底基片,激光基质、光学元件等。


4N氧化铝可用作荧光粉原料、研磨介质等。其具有相对纯度高、强度大、耐高温、耐高压、耐强酸碱腐蚀、热震稳定性好、化学性能稳定等特点。


5N高纯氧化铝
型号
Types
5N氧化块
5N Alumina Pallets
氧化铝颗粒
Alumina Granules
氧化铝球
Alumina Balls
氧化铝多晶颗粒
Alumina Polycrystal
尺寸
Dimension
Φ50/Φ60 2-5mm 2mm <50mm
50mm-150mm
松装密度(g/cm³)
Apparent Density
/ 1.8 2.0 2.0
块密度(g/cm³)
Density
≥3.7 / / /
Al₂O₃含量(%)
Content
≤2.5 <2.5 <2.5 <2.5
Si(ppm) <1 <1 <1 <1
Na(ppm) <1 <1 <1 <1
Fe(ppm) <1 <1 <1 <1
Ca(ppm) <1 <1 <1 <1
Mg(ppm) <1 <1 <1 <1
Cu(ppm) <1 <1 <1 <1
Pb(ppm) <1 <1 <1 <1
Ti(ppm) <1 <1 <1 <1
 
4N高纯氧化铝
成分
Contents
γ-Al₂O₃ α-Al₂O₃
Al₂O₃含量(%) ≥99.99 ≥99.99
Si(PPM) <5 <5
Fe(PPM) <2 <2
Mg(PPM) <1 <1
Ca(PPM) <1 <1
Cu(PPM) ≤2 ≤2
Co(PPM) <1 <1
Ni(PPM) <1 <1
Pb(PPM) <1 <1
Na(PPM) <1 <1
比表面积(㎡/g)
BET
100±10 3-5
d50(µm) 4-20 0.5-20
 
 
 

氧化铝微珠具备磨耗小、硬度高、耐腐蚀、抗冲击、经济实用等特性,是常用的精细球状研磨介质。其主要应用于有色金属矿、工业陶瓷粉体材料、非金属粉体材料、钛白粉、造纸、涂料等其他粉体材料领域,适用于艾砂磨、球磨机、搅拌磨、剥片机、抛光机和磨砂机等各类设备的磨介。

型号 HBWA-03 HBWA-04 HBWA-06 HBWA-08 HBWA-10 HBWA-20
直径(mm) 0.3-0.4 0.4-0.6 0.6-0.8 0.8-1.0 1.0-1.2 2.0
公差范围(mm) 0.28-0.42 0.38-0.62 0.58-0.8 0.78-1.0 0.98-1.18 1.8-2.2
密度(g/cm³) ≥3.90 ≥3.90 ≥3.91 ≥3.91 ≥3.91 ≥3.92
填充密度(g/cm³) 2.37 2.37 2.38 2.39 2.39 2.4
压碎强度(N/颗) >110 >300 >300 >400 >500 >1600
维氏硬度(HV) >1500 >1500 >1500 >1800 >1800 >1800
磨耗(g.kg/h) <0.12 <0.12 <0.15 <0.15 <0.18 <0.2
Al₂O₃(%) ≥99.99 ≥99.99 ≥99.99 ≥99.99 ≥99.99 ≥99.99
Si(ppm) ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10
Fe(ppm) ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10
Na(ppm) ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10
Cu(ppm) ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5
Ni(ppm) ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10

氧化锆增韧氧化铝陶瓷(ZTA)是氧化锆、氧化铝两种材料复合制备而成高强度、高韧性的优能复合体,具有优异的化学稳定性和热稳定性。随着对高品质陶瓷零件的需求持续增长,ZTA在陶瓷行业受欢迎程度逐步增加。


氧化锆增韧氧化铝陶瓷用途(ZTA)广泛应用于制作耐磨瓷球、耐火材料、结构陶瓷、工程陶瓷和高端电子元器件等;涉及行业分别为泵阀、食品加工、化学和制药业、纺织工业、航空航天和国防等。

规格型号 HWZ20D02N00Z
物理指标 PHYSICAL INDICATORS
项目 分析数据 测试方法
比表面积(㎡/g)
Specific Surface Area
10-12 BET
粒度分布(μm)
Particle Size
D10 0.1 Malvern Mastersizer 2000
D50 0.2
D90 0.6
水分<wt%> ≤0.6 At 150℃(5min)
烧损<wt%> 0.2-0.3 At 1100℃(1h)
毛坯密度<g/cm³> 2.4±0.2 At 180MPa(20s)
烧结密度<g/cm³> ≥4.3 At 1550℃(5h)
收缩率 20%  
强度<MPa> 580 Universal testing machine
化学成分 CHEMICAL COMPOSITION
项目 分析数据 测试方法
ZrO₃<wt%> 20 XRF
Fe₂O₃<wt%> ≤0.001 ICP
SiO₂<wt%> ≤0.001
CaO<wt%> ≤0.001
Na₂O<wt%> ≤0.001
 
规格型号 HWZ20D02N12ZM
物理指标 PHYSICAL INDICATORS
项目 分析数据 测试方法
比表面积(㎡/g)
Specific Surface Area
10-12 BET
粒度分布(μm)
Particle Size
D10 0.1 Malvern Mastersizer 2000
D50 0.2
D90 0.6
水分<wt%> ≤0.6 At 150℃(5min)
烧损<wt%> 1.3-1.5 At 1100℃(1h)
毛坯密度<g/cm³> 2.4±0.2 At 180MPa(20s)
烧结密度<g/cm³> ≥4.3 At 1550℃(5h)
收缩率 20%  
强度<MPa> 650 Universal testing machine
化学成分 CHEMICAL COMPOSITION
项目 分析数据 测试方法
ZrO₃<wt%> 20 XRF
MgO<wt%> 0.1  
Fe₂O₃<wt%> ≤0.001 ICP
SiO₂<wt%> ≤0.001
CaO<wt%> ≤0.001
Na₂O<wt%> ≤0.001
 

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